Institut für Metallurgie

Arbeitsgruppe Metallurgische Prozesstechnik

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Induktiv-gekoppletes Plasma-Emissionsspektrometer (ICP-OES)

Gerätebezeichnung	Kurzform	Zweck	Gebäudenr.	Verantwortlich	Tel,Email
Induktiv-gekoppletes Plasma-Emissionsspektrometer	ICP-OES	Multielementanalytik in Lösungen	0510	G. Zander	2646 gerrit.zander @tu-clausthal.de

Preis: ca. 100.000,- €

Baujahr: 2003

Physikalisches Prinzip: Nach Aufschluss der Probensubstanz wird die entstandene Lösung in ein induktiv gekoppeltes Argonplasma zerstäubt und dort atomisiert und ionisiert. Die freigewordenen Atome und Ionen werden durch die hohe Energie des Ar-Plasmas angeregt. Die nach der Anregung entstehende Strahlung wird in einem Spektrometer zerlegt und dessen Intensität gemessen. Daraus lässt sich nach vorhergehender Kalibrierung die Elementkonzentration ermitteln. Hierbei geschieht die Signalerfassung simultan für alle Elemente (Linien).

Anwendung: Bestimmung von Metallen in Lösungen und Feststoffen nach Aufschluss. Es können alle Metalle und Übergangsmetalle (inkl. B), sowie P, S und I gemessen werden. Die Technik ist ausgereift, schnell und sehr empfindlich, aber in der Regel nicht so kostengünstig wie die AAS.